“确认。”
江川在意识中默念。
还没捂热乎的大笔成就点数，瞬间被划走一部分。
下一刻，
海量的信息流以超越之前任何一次的速度涌入、重组、构建！
他“看”到那台虚拟的NXE：3400C开始分解、变形、扩展……
光源部分被一个规模庞大数十倍、基于同步辐射原理的环形电子加速器所取代，
加速器内部，电子束在超强磁场约束下以接近光速狂奔，
辐射出强度、纯度和稳定性都远超激光轰击锡滴方案的极致极紫外光。
这束高质量的光被引导进一条长达数百米的、充满惰性气体的超稳定光学长廊。
长廊内，数十面直径数米、表面粗糙度达到原子级别的巨型反射镜，
在主动减震和温控系统加持下，
将光束无数次反射、整形、缩小，
最终精准地投射到一个足球场大小的、
恒温恒湿恒压且洁净度达到变态级别的曝光大厅。
大厅内，
不再是传统光刻机里那个小小的、快速移动的硅片台，
而是一个可以同时承载数十片、甚至数百片大尺寸晶圆的巨型精密载物平台，
平台本身也是一个复杂的多自由度运动系统，
与上方的光刻工厂核心光学出口进行着纳米级的同步。
围绕着这个核心曝光区，是同样规模庞大的辅助系统集群：
超纯化学药剂供给与回收管道粗如巨龙
刻蚀、沉积、离子注入等前后道工艺模块以模块化方式环绕分布，
通过自动导引车和真空传输管道相连
遍布各处的传感器网络实时监控着数千万个参数
中央超算根据实时数据动态调整着整个工厂的运行状态……
这不仅仅是一个放大的光刻机，
这是一个彻底重构的、高度集成的、基于全新物理原理和工程理念的“芯片制造超级综合体”！
它牺牲了所有移动性和外部适配性，
将所有的技术潜力都压榨到了空间、稳定性和规模化生产这一个方向上。
方案中甚至包含了用于未来可能“后光刻”或“非光刻”器件制备的实验线接口预留。
无数张设计图纸、工艺流程图、物料清单、控制系统架构图、建设时序表
甚至初
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