上一讲我们说完 EDA，理解了 EDA 是在设计复杂芯片时必须用到的工具。这一讲我们再来看万众瞩目的光刻机。
什么是光刻机？
光刻机被称为「半导体工业皇冠上的明珠」，是用来制造芯片的核心设备。一台最先进的极紫外（EUV）光刻机市场售价达到 1.2 亿欧元，跟一架波音客机差不多。它的具体工作原理是什么呢？
中学有篇课文叫《核舟记》：「明有奇巧人曰王叔远，能以径寸之木，为宫室、器皿、人物，以至鸟兽、木石，罔不因势象形，各具情态。」核舟的大小以「径寸」来计，「舟首尾长约八分有奇，高可二黍许。」「.....通计一舟，为人五，为窗八，为箬篷，为楫，为炉，为壶，为手卷，为念珠各一；对联、题名并篆文，为字共三十有四。而计其长，曾不盈寸。盖简桃核修狭者为之。」文末作者还感慨了一番：「魏子详瞩既毕，诧曰：嘻，技亦灵怪矣哉！《庄》、《列》所载，称惊犹鬼神者良多，然谁有游削于不寸之质，而须麋瞭然者？假有人焉，举我言以复于我，亦必疑其诳。乃今亲睹之。繇斯以观，棘刺之端，未必不可为母猴也。嘻，技亦灵怪矣哉！」
《核舟记》的作者如果看到如今的芯片，定会发出另一番感叹，因为芯片的内部尺寸对古人来说已经完全无法想象了。通俗来讲，芯片就像一个做工极其精细的雕刻艺术品，而不同之处就在于，它的精细程度远远超过了以往所有的人工制作出的物件。芯片已经精细到什么程度了呢？目前最先进的工艺，已经达到纳米级，逼近理论的极限从实现的手段来看，必须使用「光」——波长极短。与雕刻工艺相比，光刻机的工作原理更像一台照相机，只不过它的成片方式和普通相机不同，它需要在底片（硅晶圆）上进行很多次的「拍照」，每一次把「底片」，也就是设计好的芯片电路图曝光到「相片纸」上。这个「底片」有一个专业名称，叫做「掩膜」——用来掩盖的膜，负责让该曝光的地方曝光，其他部分不受影响。
光刻机的基本原理并不复杂，其最关键的部件也只有三个：光源发射器、用来调整光路和聚焦的光学镜头，以及放置硅晶圆的曝光台。你看，像不像把大象装进冰箱的那三步？没错，看起来并不难，也正是因为如此，在起初芯片集成度还不高的时候，光刻工艺并不需要单独的特殊设备，制造厂自己就可以搭建满足使用要求的工装出来。但后来，由于摩尔定律的狂飙猛进，单位面积上的晶体管数量呈指数级增长，人们突然发现，光刻工艺成了
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